近期台積電2奈米製程技術外洩案，引發國內半導體產業高度關注。高檢署智慧財產檢察分署於27日偵結指出，前台積電工程師陳力銘轉任東京威力科創（TEL）後，涉嫌透過前同事吳秉駿與戈一平拍攝、重製關鍵技術，檢方依國安法對陳男等3人提出起訴，最重求刑14年。此案凸顯半導體尖端技術保護及人才流動的敏感性。

東京威力科創（TEL）總部位於日本東京，針對此事件回應表示，經內部調查，截至目前未發現相關機密資訊外洩至第三方，也未發現任何組織性指示該名前員工獲取不當資訊的行為。TEL強調，公司秉持法令遵循及倫理經營原則，將持續全面配合台灣司法機關調查。

(圖/ TEL)

分析指出，此事件反映兩大層面議題：一是尖端半導體製程技術的高度敏感性。2奈米技術屬全球半導體領先水平，其設計、製程細節涉及龐大研發投資與國家戰略競爭力。任何外洩，都可能對企業及國家競爭優勢造成衝擊。二是跨國人才流動與企業間競爭風險。陳力銘轉任日本TEL後仍涉及台積電技術重製，凸顯跨境人才管理、保密義務與企業合約條款的重要性。

(圖/ TEL)

此外，TEL強調資訊安全（含客戶及利益關係人敏感資訊）為經營核心之一，已建立完整監控、稽核機制與員工法遵教育，未來將持續強化相關制度。專家指出，國際科技企業在面對尖端技術外洩風險時，除了法律制裁，也須透過技術管控與內部管理雙管齊下，才能有效降低風險。

半導體業界人士分析，台積電作為全球領先晶圓代工企業，對製程機密有嚴格的管理機制，但高階人才流動仍不可避免。此次事件若進一步證實有不當使用或外洩行為，將可能引發跨國法律、商業及國安層面的多重挑戰。

總結而言，2奈米製程外洩案凸顯了半導體尖端技術保護的重要性，也提醒跨國企業需加強資訊安全與人才管理。TEL表態未發現外洩雖有助穩定市場信心，但事件仍需持續觀察司法後續發展，並對整個產業鏈提出警示。